دراسة تأثير أشعة كاما على الخصائص الكهربائية لنماذج MOS

نماذج MOS المحضرة بطريقة التأكسد الأنودي ذات ثلاثة أقطاب بعيارية 0.1 لحامض HCl والتي تعمل للحصول على سمك منتظم لطبقة SiO2 وبأسماك صغيرة لطبقة الأوكسيد حيث كان 45 Ao و 80 Ao تم دراسة تأثير أشعة كاما على عمل نماذج MOS حيث أجريت قياسات I-V و C-V قبل وبعد التشعيع. وأظهرت النتائج انخفاض في سعة النماذج وزيادة قيمة التوصيلية الكهربائية مما أعطى مؤشر لانخفاض حاجز الجهد في الطبقة البينية للنماذج. وكذلك أجريت قياسات القدرة كخلايا شمسية وكانت نتيجة التشعيع تدل على انخفاض في قيمة القدرة الخارجة من النماذج.